這一次光學研究所的目标還是非常大了，想直接将步進掃描投影曝光機，準備将集成電路圖形的線寬縮小到035 μ的節點。波長能達到193n, 光學光刻分辨率争取能達到70n的極限，目标很宏大，自然需要的時間也不少。 限制芯片大小的主要關機就是在于光刻系統能獲得的分辨率有關, 而提升分辨率最有效的方法就是減小照射光源的波長，因此這個項目的關鍵就是開發和尋找新型的短波長的光源, 研究不同的光源本來就是光學研究所的重要任務，所以這一次他們項目的重點也就是找到隻有193n甚至是要比這個數字更短的光源。 而這項任務除了本身的研究實力，大量的實驗之外, 自然還需要不少運氣了，陸見倒是記得光刻機的幾種光源，大概是激光、紫外光、深紫外光，還有極紫外光，而極紫外光是後世最先進的光源技術...

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